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Senmart Instruments (Beijing) Co., Ltd.
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Crystal Five-Target-Kopf-Plasma-HF-Magnetron-Spritzer

VerhandlungsfähigAktualisieren am01/30
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VTC-5RF ist ein 5-Zielkopf-Plasma-RFM-Sputtergerät für die Forschung von MGI-Filmen mit hohem Durchsatz (Material Genome Project). Besonders geeignet für die Erkundung von Festkörperelektrolytenmaterialien, durch 5 Elemente in 16 verschiedenen Verhältnissen.
Produktdetails

KristallFünf-Zielkopf-Plasma-RF-Magnetron-Spritzer

Modell:VTC-5RF

Produktübersicht:

Der VTC-5RF ist ein Plasma-RFM-Sputtergerät mit 5 Zielköpfen für die Forschung von MGI-Filmen mit hohem Durchsatz (Material Genome Project). Besonders geeignet für die Erkundung von Festkörperelektrolytenmaterialien, durch 5 Elemente in 16 verschiedenen Verhältnissen.

Hauptmerkmale:

  • Viele Sputterziele und Stromversorgung sind verfügbar, freie Kombination, bitte rufen Sie unsere Vertriebsabteilung an.
  • Abhängig von der verwendeten Stromversorgung (DC oder RF) können Metall- oder Nichtmetallmaterialien abgelegt werden.
  • Ein Rotationsschalter aktiviert den Spritzkopf, der automatisch in Vakuum- oder Plasmaumgebung schaltet, ohne den Vakuumgrad zu beeinflussen.
  • Es können fünf Ziele aus verschiedenen Materialien installiert werden, und jeder Zielkopf kann individuell Parameter wie die Sputterzeitleistung einstellen, um Folien mit verschiedenen Komponenten zu wachsen.
  • Optional können Sie mehrere HF-Stromversorgungen kaufen, um mehrere Ziele gleichzeitig zu sputtern.
  • Optional mit Gerätesteuerungssoftware für die Steuerung aller Spritzparameter über einen Computer.

Spritzkammer

  • Vakuumkammer aus Edelstahl 304
  • Innengrößen: 470mm L x 445mm D x 522mm H (105 L)
  • Scharniertür mit einem Durchmesser von Φ380 mm mit einem Glasfenster von Φ150 mm

Spritzkopf&Probentesch

  • 5 1-Zoll-Magnetron-Spritzköpfe mit wasserkeltem Interlayer
  • Elektroblocks im Spritzkammer installiert
  • Spritzabstand: Spritzabstand einstellbar
  • Spritzwinkel: Spritzwinkel einstellbar
  • Beim Experiment ist es erforderlich, das Ziel und die Kupferdichtung des Ziels mit leitfähiger Silbermassa zu kleben, (leitfähige Silbermassa kann in unserem Unternehmen gekauft werden)
  • Das RF-Kabel kann als Ersatz separat bestellt werden
  • Das Gerät benötigt einen Wasserkühler zur Kühlung des Zielkopfes

Probentesch

  • Ein Probentisch mit einem Durchmesser von 150 mm, bedeckt mit einem Rotationstisch mit einem Loch von 10 mm, zeigt jedes Mal eine Probe, die in eine Folie gespritzt wird.
  • Probentischgröße: Φ150mm, kann durch Programmsteuerung gedreht werden, kann eine Folie von 16 verschiedenen Komponenten hergestellt werden
  • Probentesch kann erwärmt werden,ZuiHohe Temperaturen bis zu 600 ° C (je nach Konfiguration können sich ändern, bitte den Vertrieb konsultieren)

Vakuumsystem

  • Installation mit KF40 Vakuumschnittstelle
  • Vakuumgehalt: 4,0e-5Torr (Molekularpumpe) (Referenzwert, bitte klicken)
  • Verschiedene Vakuumpumpen können bei uns erworben werden

Einluftung

  • 1/4 Zoll Lufteingang zur einfachen Verbindung der Zylinder
  • Auf der Vorderseite des Geräts ist ein Luftstromregelungsknopf für eine einfache Regelung des Luftstroms ausgestattet.

Ziel

  • Anforderte Zielgröße: Durchmesser 25mm,ZuiGroße Dicke 3mm
  • Verschiedene Ziele können bei uns erworben werden

KristallFünf-Zielkopf-Plasma-RF-Magnetron-Spritzer

Modell:VTC-5RF

Filmdickenmesser(Optional):Ein Filmdickmesser kann bei uns erworben werden, um auf dem Spritzer installiert zu werden

Nettogewicht:60 kg (ohne Pumpe)

Qualitätszertifizierung:CE-Zertifizierung

Tipps zur Verwendung:

  • Dieses Gerät ist ein DIY-Gerät, die Parameter ändern sich vor dem Kauf bitte sorgfältig telefonieren
  • Um eine bessere Filmqualität zu erzielen, muss ein hochreines Gas zugeführt werden (empfohlen > 5N)
  • Stellen Sie vor der Beschichtung sicher, dass der Spritzkopf, das Ziel, die Substrate und der Probentesch sauber sind
  • Um eine gute Verbindung zwischen Film und Substrat zu erreichen, reinigen Sie die Substratoberfläche vor dem Spritzen
  • Ultraschallreinigung (Detaillierte Parameter klicken Sie auf das Bild unten): (1) Aceton-Ultraschall (2) Isopropanol-Ultraschall - Entfernung von Fett (3) Stickstoff blasen Trocknung (4) Vakuumofen Entfernung von Feuchtigkeit.
  • Plasmareinigung (Detailparameter klicken Sie auf das Bild unten): Die Oberfläche kann rau werden, die chemischen Bindungen der Oberfläche aktiviert werden und zusätzliche Schadstoffe entfernt werden.
  • Herstellung einer dünnen Pufferschicht (ca. 5 nm): wie Gr, Ti, Mo, Ta, kann zur Verbesserung der Haftung von Metallen und Legierungen angewendet werden.

Warnung

  • Hinweis: Die Hochspannungskomponenten sind im Inneren des Produkts installiert, es ist verboten, privat zu demontieren, elektrisch zu bewegen.
  • Auf der Zylinder sollte ein Druckdämpfungsventil installiert werden (Ausrüstungsstandard ist nicht enthalten), um sicherzustellen, dass der Ausgangsdruck des Gases auf 0,02 MPa begrenzt ist.Im Folgenden zur sicheren Verwendung.
  • Der Spritzkopf ist an eine hohe Spannung angeschlossen. Aus Sicherheitsgründen muss der Bediener das Ziel vor dem Ausschalten des Geräts probieren und austauschen.