Hakuto Ionenätzmaschine 20IBE-J

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Original importierte Hakuto Ionenätzmaschine 20IBE-J für die Massenproduktion, unabhängig davon, welches Material verwendet wird. Hakuto Ionenätzmaschine 20IBE-J Konfiguration mit US-amerikanischer KRI 20cm Kaufmann-Ionenquelle, Ätzhomogenität: 5%, Silizium-Si-Ätzgeschwindigkeit 20 nm/min, Probenstisch: Direktkühlung (wasserkehlt), 0 ~ 90 Grad Drehung, so dass der RFW-Winkel beliebig angepasst werden kann, Ätz kann nach Bedarf vertikal, schräg und andere Bearbeitungsformen durchgeführt werden.

Produktdetails

Hakuto Ionenätzmaschine 20IBE-J Produktvorteile:

Hauptvorteile der Hakuto Ionenätzmaschine:

1. Mikrobearbeitungseinrichtung für den Trockenprozess, so dass die Entwicklung, Forschung und Massenproduktion in den Bereichen Dünnfilmmagnetkopf, Halbleiterkomponenten, MR-Sensor und andere weit verbreitet werden können.

Eigenschaften des physikalischen Ätzes, unabhängig davon, welches Material verwendet wird, können zur Bearbeitung verwendet werden, so dass verschiedene Bereiche weit verbreitet werden können.

3. Konfiguration mit amerikanischen Kaufmann-Ionenquellen

4. Der HF-Winkel kann beliebig angepasst werden, Ätz kann nach Bedarf vertikal, schräg usw. bearbeitet werden.

5. Die Substrate wird direkt auf der direkten Kühlvorrichtung montiert, so dass sie bei niedrigen Temperaturen geätzt werden kann.

6. Konfigurieren Sie den Rotationstransporter, so dass das Ätzstück eine gleichmäßigere glatte Oberfläche erhalten kann.

7. Die Maschine ist entworfen mit automatisierten Betriebsprozessen, so dass es einen sehr freundlichen Gebrauch der Produktionsprozesse haben kann.

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