Breitspektrales Müller-Matrix-Elliptometer ME-L

Übersicht

Der ME-L ist ein vollautomatischer, hochpräziser Müller-Matrix-Elliptometer von wissenschaftlicher Qualität, der die jahrelange Investition des Summerlight-Forschungsteams in die Elliptiktechnologie zusammenfasst und die neuesten innovativen Technologien der Branche einsetzt, einschließlich Farbdifferenzkompensatoren, Synchronsteuerung mit Doppelrotationskompensatoren und Müller-Matrix-Datenanalyse. Kann für die Charakteristikanalyse einer Vielzahl von homogenen/heterogenen Filmmaterialien mit Membrandücken, optischen Nano-Rasterkonstanten und eindimensionalen/zweidimensionalen Nano-Rasterstrukturen angewendet werden.

Der Dual Rotation Compensator (DRC) ist konfiguriert, um alle 16 Elemente der Müller-Matrix auf einmal zu messen. Konfiguration von hochwertigen Hardwaremodulen wie automatischen Winkelwandlern, fünfdimensionalen Probenkontrollplattformen; Interaktive Software-Schnittstelle mit Hilfe von Assistenten-Design, einfache Handhabung und einfache Bedienung; Eine umfangreiche Datenbank und Bibliothek mit geometrischen Modellen, die eine leistungsstarke Datenanalyse ermöglicht.

1. Produkteigenschaften
1, die Verwendung von Deuteriumlampen und Halogenlampen mit einer kompositiven Lichtquelle, das Spektrum deckt den UV-Bereich bis zum nahen Infrarot (193-2500 nm);



Müller-Matrix-Datenverarbeitung, größere Messinformationsmenge, schnelle Messgeschwindigkeit und genauere Daten;



Basierend auf der Konfiguration des Doppel-Rotationskompensators können 16 Elemente der gesamten Müller-Matrix auf einmal gemessen werden, die im Vergleich zu herkömmlichen Spektralellipsometern umfassendere Messinformationen erhalten können;



4. Die patentierte Technologie des Sommerlichts gewährleistet ein hochwertiges und stabiles Spektrum in allen Wellenbändern im breiten Spektrumbereich;





Hunderte von Materialdatenbanken, eine Vielzahl von Algorithmusmodellbibliotheken, die den überwiegenden Großteil der derzeitigen optischen Materialien abdecken;



6. Integration der Analyse des Nano-Rasters, kann gleichzeitig die Messung und Analyse der Nanostrukturzyklus, Linienbreite, Linienhöhe, Seitenwandwinkel, Rauheit und andere geometrische morphologische Informationen messen;




II. Produktanwendung
Halbleiterfolienstruktur: dielektrische Folien, Metallfolien, Polymere, Photogravuren, Silizium, PZT-Folien, Laserdioden GaN und AlGaN, transparente Elektronik usw.;
Halbleiter-periodische Nanostruktur: Nano-Raster, Gravurfehler, T-Typ Phasenwechselspeicher usw.;
Neue Materialien, neue physikalische Phänomene Forschung: Material optische Gegenseitigkeit, Elektro-Licht-Effekt, Reflexion-Effekt, Ton-Licht-Effekt, Magnet-Licht-Effekt, Spin-Licht-Effekt, Kerr-Effekt, Farady-Effekt usw.;
Flachbildschirm: TFT, OLED, Plasma-Display-Platte, flexible Display-Platte usw.;
Photovoltaische Solarenergie: Reflexivität von Photovoltaik-Materialien (wie Si3N4, Sb2Se3, Sb2S3, CdS usw.), Messung des Lichtdämpfungskoeffizienten, Messung der Schichtdicke und der Oberflächenrauheit usw.;
Funktionelle Beschichtungen: Durchlässige, Selbstreinigende, Elektroverfärbung, Spiegeloptische Beschichtungen sowie Polymere, Öle, Al2O3-Oberflächenbeschichtungen und -behandlungen;
Bio- und Chemietechnik: organische Folien, LB-Folien, SAM-Folien, Proteinmolekularschichten, Folienadsorption, Oberflächenmodifizierung usw.;
Blockförmige Materialanalyse: Brechungsgrad n und Dämpfungskoeffizient k für Feststoffe (Metalle, Halbleiter, Medien usw.) oder Flüssigkeiten (Reinstoffe oder Gemische), Entwicklung und Qualitätskontrolle von neuen Glasprodukten usw.
Empfohlenes Zubehör

Temperatursteuerung	Mapping Erweiterungsmodule	Vakuumpumpen	Transmittionsadsorptionskomponenten