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Hunan Shengming Technologie Co., Ltd.
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Wuhan Mei-L Müller Matrix Elliptimeter

VerhandlungsfähigAktualisieren am03/16
Modell
Natur des Herstellers
Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort
Übersicht
ME-L Müller-Matrix-Elliptometer 1, Produkteinführung: 1, Ultrabreiter Spektrumbereich: Verwendung von Deuterium- und Halogenlampen
Produktdetails



ME-L Müller-Matrix-Ellipsometer
    1. Produktvorstellung:

    Ultrabreiter Spektrumbereich: mit Deuteriumlampen und Halogenlampen mit einer Lichtquelle, die spektrale Abdeckung von UV bis nahem Infrarotbereich (380-1000nm) unterstützt, um auf 200-1650nm zu erweitern

    2. Doppelte Rotationskompensatormodulation: Hochpräzise Drehung und Triggersynchronisierung zur Erfassung von spektralen Daten mit hoher Geschwindigkeit

    Volle Müller-Matrix-Messung: Basierend auf der Konfiguration des Doppel-Rotationskompensators können 16 Elemente der Müller-Matrix auf einmal erhalten werden, die im Vergleich zu herkömmlichen Spektralellipsometern umfassendere Messinformationen erhalten können.

    4, Super Farbverlust Differenz Kompensation Design: Patentierte Kompensator-Technologie, um sich an die Anforderungen der Phasenmodulation mit hoher Präzision im breiten Spektrumbereich von tiefen UV bis nahen Infrarot anzupassen

    Reiche Materialdatenbank und Algorithmusmodelle: Hunderte von Materialdatenbanken, mehrere Algorithmusmodellbibliotheken, die den größten Teil der derzeitigen optischen Materialien abdecken

    6, Assistent-interaktive Schnittstelle: Software-Assistent interaktive Mensch-Computer-Schnittstelle Betrieb, um den Benutzern eine qualitativ hochwertige Betriebserfahrung zu bieten

    7, Nano-Raster-Analyse-Fähigkeit: Fortgeschrittene Analyse-Algorithmus-Modell, um eine Vielzahl von Nano-Raster-Struktur-Zyklus, Linienbreite, Linienhöhe, Seitenwandwinkel, Rauheit und andere geometrische morphologische Informationen zu extrahieren




    Technische Parameter:

    Grundfunktionen Einmaliger Zugang zu Spektren wie Müller-Matrix, Psi/Delta, N/C/S, R/T usw.
    Spektralbereich 380-1000nm (210-1650nm optional)
    Messzeit 1-8s
    Eingangswinkelbereich 45-90°
    Fleckgröße 2-3mm/200um
    Wiederholungsgenauigkeit 0,005 nm (100 nm SiO2 Silizium)
    Absolute Genauigkeit
    (Luftmedium)
    Elliptische Parameter: ψ = 45 ± 0,05 ° Δ = 0 ± 0,01 °
    Müller-Matrix: Diagonale Elemente m = 1 ± 0,005 Nicht-Diagonale Elemente m = 0 ± 0,005
    Analysesoftware Bis zu Hunderten von optischen Materialbibliotheken mit Benutzeranpassung
    Simulation und Analyse von mehrschichtigen homogenen/heterogenen optischen Folien und periodischen Rasterstrukturen