Aktivierungsofen CentroTherm ACTIVATOR150

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Aktivierungsofen CentroTherm ACTIVATOR150

Produktdetails

[Produktbeschreibung]

centrothermc.ACTIVATOR 150 Hochtemperatur-Ofen-Produktionslinie für die Ionenspritzung von Siliziumkarbid (SiC) oder Galliumnitrid (GaN) Geräten nach dem Hitzen c.ACTIVATOR 150 ist in einer Vielzahl von Ausführungen für den Einsatz in der Forschung, Entwicklung und Serienfertigung erhältlich und bietet eine hohe Prozessflexibilität.Die einzigartige metallfreie Heizungskonstruktion von SHANGTON erhöht die Bearbeitungstemperatur auf 2000 °C und verkürzt die Bearbeitungszykluszeit. Durch die geringe Fläche und die niedrigen Eigentumskosten ist der c.ACTIVATOR 150 kostengünstig für die Produktion.

[Anwendungsverfahren]

· Erhitzung von GaN und SiC Wafer

• Wachstum von Graphen

[Produktvorteile]

• Hohe Aktivierungseffizienz

Maximale Stabilität bei Prozesstemperaturen von bis zu 2000 °C

· Unterstützt 2-6 Zoll Wafer

· 5-50 Wafer können in Mengen verarbeitet werden

Erwärmungsgeschwindigkeit bis zu 100K/min

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